晶研抛光研磨机**高镜面-精密平面-技术精湛

　　晶研抛光研磨机专为严苛的生产实验室环境而设计。适用于手动或自动样品制备，其简单灵活的操作，让用户可以轻松地应对多种应用需求。采用耐用结构设计以提高在频繁使用环境中的耐用性，而其*特的快速清洁以及丰富的操作功能，提高了用户操作的便利性。

　　制备和清洁过程中可节省时间

　　直观的薄膜面板控制易于操作。

　　快速清洁功能包括可伸缩的软水管、一次性碗状内衬和360度冲洗。

　　D型盘易于更换。

　　选择满足实验室需要的较佳方案

　　*使用较大的装置时，选择8”和10”尺寸的基座盘可优化砂纸和金刚石成本。